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納米結(jié)構(gòu)生產(chǎn)透明導(dǎo)電電極

作者:新聞中心 來源:數(shù)字儲能網(wǎng) 發(fā)布時間:2012-12-26 瀏覽:次
    中國儲能網(wǎng)訊:生產(chǎn)高級納米結(jié)構(gòu)涂層和設(shè)備的Rolith公司12月20日宣布,密歇根大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移辦公室獨家授權(quán)該公司使用微米和納米圖案結(jié)構(gòu)基材,生產(chǎn)透明導(dǎo)電電極。這一授權(quán)的生產(chǎn)方法由密歇根大學(xué)教授Jay Guo開發(fā),以運用連續(xù)光學(xué)光刻的圖案結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),是生產(chǎn)透明導(dǎo)電電極的一種低成本、高產(chǎn)出的方法。
 
  透明導(dǎo)電電極對各種光電子設(shè)備的操作至關(guān)重要,廣泛用于高容量應(yīng)用設(shè)備中,比如顯示器、太陽能電池以及LED 。當(dāng)前主要用銦錫氧化物(ITO)等透明導(dǎo)電金屬氧化物來生產(chǎn)電極,然而,出于成本、產(chǎn)量以及性能方面的綜合考量,市場對以其他解決方案替代ITO的需求逐漸增長。
 
  近期關(guān)于納米圖案金屬光學(xué)屬性的發(fā)現(xiàn)使人們可開發(fā)新型透明電極,無需依賴ITO。密歇根大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)移辦公室授權(quán)的納米結(jié)構(gòu)電極技術(shù),結(jié)合Rolith公司現(xiàn)有的“Rolling Mask Lithography”光刻技術(shù),將為市場提供便利實惠的生產(chǎn)解決方案。
 
 
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