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硫摻雜富氮碳納米片用作高性能鈉電負(fù)極材料

作者:中國儲能網(wǎng)新聞中心 來源:低維材料 發(fā)布時間:2016-12-29 瀏覽:次

中國儲能網(wǎng)訊:碳基材料由于資源豐富、價格低廉同時又環(huán)境友好被視為最具發(fā)展?jié)摿Φ拟c離子電池負(fù)極材料,硬碳、炭黑、碳纖維、石墨烯等相繼見諸報端。不幸的是,大多數(shù)碳材料在不同程度上存在首次庫倫效率低和循環(huán)性能差的問題,而雜環(huán)原子(例如B,N,S,P)的摻雜可改善上述問題,因為它能提高導(dǎo)電性,同時又能引入結(jié)合鈉離子的活性位點,氮摻雜的碳基材料被廣泛研究并在作為鈉電負(fù)極時展現(xiàn)出重大進步。

與氮相比,硫擁有更大的原子尺寸和更小的電負(fù)性,摻雜時更有利于增大層間距、引入活性位點、增強碳基材料的電學(xué)性能。從雙元素?fù)诫s的協(xié)同效應(yīng)的角度來看,N/S共摻雜是實現(xiàn)高導(dǎo)電性和擴大層間距的有效方式。但是,通常用含硫的前驅(qū)體作為硫源,僅能通過擴大層間距來提高鈉的嵌入,不能提供額外的的法拉第反應(yīng)來進一步提高儲鈉容量。

 

圖1 硫摻雜的示意圖

為解決此類問題,南開大學(xué)周震教授團隊采用了一種完全不同的方式進行硫摻雜——在H2S氣氛下熱處理富氮碳納米片。

該方式利用氣-固反應(yīng)直接將吡咯N取代為S,通過形成-C-S-C-鍵的形成來提高S的利用率(如圖1所示),增大層間距的同時(圖2)提供更多的活性位點來滿足高度可逆的儲鈉反應(yīng),因此該氮硫共摻雜的多孔碳納米片(S-N/C)用作鈉電負(fù)極時展現(xiàn)出高容量和優(yōu)異的倍率性能。

 

圖2 氮硫摻雜對碳材料層間距的影響

從S-N/C的CV中可以看出,與N/C相比,S-N/C在1.05V有一個還原峰,對應(yīng)Na+與連結(jié)在碳基底上的S之間的反應(yīng),在1.8V有一個氧化峰,表明S-N/C的部分容量是由Na+與 S之間的法拉第反應(yīng)貢獻(xiàn)。在50mA/g的電流密度下,穩(wěn)定容量可保持在350mAh/g左右,即使電流密度提高到10A/g,容量仍可維持在110mAh/g左右,展現(xiàn)出優(yōu)異的倍率性能。

 

圖3 S-N/C電化學(xué)性能

上述成果發(fā)表于AdvancedMaterial

Yang J, Zhou X, Wu D, etal. S‐Doped N‐Rich Carbon Nanosheets with Expanded Interlayer Distance as AnodeMaterials for Sodium‐Ion Batteries[J]. Advanced Materials, 2016.

DOI:10.1002/adma.201604108

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